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CRF真空等離子設(shè)備的能量密度對甲烷CH4和CO2轉(zhuǎn)化轉(zhuǎn)化成C2烴CO的研究

CRF真空等離子設(shè)備的能量密度對甲烷CH4和CO2轉(zhuǎn)化轉(zhuǎn)化成C2烴CO的研究： CRF真空等離子設(shè)備能量密度對甲烷和CO2轉(zhuǎn)化率、C2烴、CO收率的影響可見CH4和CO2轉(zhuǎn)化率均隨能量密度增大而呈上升趨...
發(fā)布時間:2022-11-21
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plasma設(shè)備離子化后可以改善材料的抗疲勞和抗應(yīng)力腐蝕性能

plasma設(shè)備離子化后可以改善材料的抗疲勞和抗應(yīng)力腐蝕性能：當(dāng)應(yīng)力波的壓力峰值超過材料的彈性限一定時間，就會在材料表層形成密集穩(wěn)定的位錯結(jié)構(gòu)，也可能產(chǎn)生孿晶等顯微缺陷的同時，使...
發(fā)布時間:2022-11-18
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plasma共振對金剛石表面可以進行活化改性增加活性官能團

plasma共振對金剛石表面可以進行活化改性增加活性官能團：利用plasma共振技術(shù)增強金剛石納米顆粒的熒光強度，將金剛石納米顆粒與性能穩(wěn)定的膠體金結(jié)合，得到分布于膠體金附近的金剛石熒...
發(fā)布時間:2022-11-17
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plasma設(shè)備清洗燒焦產(chǎn)品的主要原因4個點進行描述

plasma設(shè)備清洗燒焦產(chǎn)品的主要原因4個點進行描述： plasma設(shè)備是1一種輔助類設(shè)備，利用等離子體濺射能達到普通清洗方法無法達到的處理作用。等離子體是一類將足夠的能量電離成等離子體的...
發(fā)布時間:2022-11-16
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?電漿清洗機CMOS工藝中應(yīng)用于集成電路制造中WAT方法研究

電漿清洗機CMOS工藝中應(yīng)用于集成電路制造中WAT方法研究： WAT即硅圓片接收測試，就是在半導(dǎo)體硅片完成所有的制程工藝后，對硅圓片上的各種測試結(jié)構(gòu)進行電性測試，它是反映產(chǎn)品質(zhì)量的一種...
發(fā)布時間:2022-11-15
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